본 기술은 다공성 탄소 구조체 내에 금속 황화물을 형성하고, 금속 나노 입자를 선택적으로 에칭하여 형성된 메조 기공에 황을 담지함으로써 리튬 폴리설파이드 셔틀링을 억제하고 전도성을 향상시키는 기술입니다.
황의 낮은 전도성, 리튬 폴리설파이드 용출(셔틀링)에 의한 전지 성능 저하, 그리고 기존 다공성 탄소 구조체의 기공 구조 한계로 인한 제한적인 황 담지량 문제 문제가 있었습니다.
본 기술은 금속-탄소 복합체를 황화 처리한 후 산성 용액으로 잔류 금속 입자를 제거하여 메조 기공을 확보하고, 이 공간에 황을 담지하는 단계적 제조 공법(전구체 합성→탄화→황화→에칭→황 합성)을 제안함으로써, 차세대 리튬 이차전지 양극 소재 개발에 실질적인 해법을 제시할 수 있습니다.
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