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IBL-26-2772

단분산성 PMMA 고분자 나노비드 및 이의 제조방법

등록일
2026-10-27
안정화제 없는 분산중합 기반 산화아연 함유 단분산 PMMA 나노비드

본 기술은 분산 안정화제나 분산제 없이 중합개시제를 녹인 수성 분산액에 메틸 메타크릴레이트와 산화아연 나노분말을 넣고 질소 분위기에서 분산중합해 단분산 PMMA 나노비드를 만드는 방법입니다. 평균 입경 200~900nm의 균일한 산화아연 함유 고분자 비드를 얻을 수 있습니다.

고분자 나노비드는 크기와 형태가 균일해야 성능이 나오지만 기존 합성법은 고가 장비나 유독한 물질을 쓰거나 한 번에 소량만 만들 수 있어 대량생산이 어려웠습니다. 균일도를 맞추려면 알루미늄 화합물 같은 안정화제를 넣어야 해 공정이 복잡해지고 원가가 오르는 문제가 있었습니다.

본 기술은 안정화제를 빼고도 단분산성이 뛰어난 비드를 간단한 공정으로 얻고, 결정성 산화아연을 비드에 함께 담아 기능성을 더합니다. 자외선 차단 화장품 필러, 광확산 도료, 코팅재, 디스플레이용 광학 소재에 적용될 수 있어 서브마이크론 고분자 비드를 저렴하게 대량 공급할 수 있습니다.

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Key Features:
  • 분산 안정화제 및 분산제를 첨가하지 않고 중합 개시제가 완전히 용해된 수성 분산액을 제조하는 단계
  • 분산액에 메틸 메타크릴레이트와 산화아연 분말을 첨가한 뒤 질소 분위기에서 분산 중합시켜 평균 입경 200~900nm의 PMMA 나노비드를 얻는 단계
  • 육방정계 결정상을 가진 1 내지 100nm 크기의 산화아연 분말을 MMA 100 중량부 대비 0.1 내지 5 중량부로 사용하는 제조방법
  • 중합으로 얻은 고분자 분말을 증류수 또는 에탄올로 수세한 후 동결건조하는 단계

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대구경북과학기술원
임상규 | 홍성희 | 김순현 | 황성호
문서
출원일:
2013-10-04
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특허등록번호:
10-1545629
산업
첨단소재
기술
화학
신소재•재료
국가
Korea
패밀리 특허

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