본 기술은 황화물계 고체전해질 분말을 반응성이 없는 디클로로에탄 또는 디클로로벤젠 용매에 분산한 슬러리를 질소 분위기에서 콘-젯(cone-jet) 모드로 정전분무하는 기술입니다. 이를 통해 집전체 위에 균일하고 접합 특성이 우수한 고체전해질 또는 복합전극 후막을 형성합니다.
기존 박막 공정은 높은 진공도가 필요해 비용이 많이 들었고, 가압성형법은 대면적화와 계면 특성 확보가 어려웠습니다. 캐스팅법 역시 두께 제어가 어렵고 넓은 면적을 형성하기 곤란하다는 한계가 존재했습니다.
본 기술은 질소 분위기에서 분무거리 대비 인가전압 비율을 1.0~1.5 kV/cm, 분무유속을 115~320 cm/h로 맞춰 안정된 콘-젯 모드를 구현하고, 증착 중 집전체를 가열하여 별도 건조 없이 후막의 결합력과 강도를 높이도록 구성됩니다. 고체전해질과 전극재, 도전재를 포함한 복합 슬러리를 연속으로 적층하여 셀까지 제조합니다. 전고체전지 양산 라인과 파일럿 코팅 설비 등에 적용될 수 있어, 진공 장비나 고압 프레스 없이 양극-전해질-음극 적층체를 한 공정 흐름으로 완성할 수 있습니다.
US11316141B2, WO2018-016866A1
