본 기술은 리튬금속 입자 표면에 질산화물·질화물계 무기입자와 바인더를 코팅하여, 충방전 시 전극 표면에 이온 전도성이 높은 Li3N-rich SEI 막을 In-situ로 형성함으로써 덴드라이트 성장을 억제하는 기술입니다.
리튬 분말을 사용한 음극은 반응성이 높아 슬러리를 제조하기 어려운 문제가 있었습니다. 또한 충방전 중 생기는 리튬 덴드라이트가 전류밀도를 불균일하게 만들어 전지 수명이 짧아지는 한계가 존재했습니다.
본 기술은 리튬금속 입자, 바인더, LiNO3 등의 질산화물·질화물계 무기입자를 LiNO3 대 LiNO2·Li3N 총합 몰비 20:1~1:1로 배합한 슬러리를 만들어 음극 표면에 균일한 보호층을 형성하고, 전지 가동 시 안정적인 SEI 막이 생기도록 구성됩니다. 리튬 금속 전지와 고에너지 밀도 드론·전기차용 음극 제조에 적용될 수 있어, 기존 슬러리 코팅 설비로 리튬 금속 음극을 대면적 생산할 수 있는 길을 열어 줍니다.
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