본 기술은 메조기공을 포함하는 금속산화물 나노입자를 질소로 도핑된 환원된 산화그래핀(rGO) 층 사이에 삽입하여 전극 활물질을 구성함으로써, 입자의 재응집을 방지하고 층 사이에 형성된 매크로 기공을 통해 물질 전달 효율을 극대화한 구조입니다.
기존 소듐-이온 이차전지 및 하이브리드 커패시터에서 음극 내 소듐-이온의 느린 확산 반응으로 인한 양극과의 속도 특성 불균형(Kinetics mismatch) 문제 및 활물질의 재응집으로 인한 성능 저하 문제가 있었습니다.
본 기술은 메조기공 금속산화물-실리카 입자를 극성 유기실란으로 개질하여 음전하 산화그래핀과 정전기적 결합을 유도하고, 열처리를 통해 그래핀의 환원 및 질소 도핑을 수행한 뒤 실리카를 에칭하여 제거함으로써 금속산화물 나노입자가 그래핀 층 사이에 분산된 나노복합체 구조를 형성함으로써, 이차전지의 품질과 생산성을 함께 끌어올리는 데 활용될 수 있습니다.
N/A
