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IBL-26-0617

메타재질구조의 다중대역 소형 급전 장치 및 이를 이용한 미니 다중 빔 스캐닝 안테나

등록일
2026-10-28
CRLH 메타재질구조 기반 이중대역 소형 급전 장치와 빔 스캐닝 안테나

본 기술은 왼손·오른손 전송파가 공존하는 CRLH 메타재질구조로 이중대역 위상 변위기, 브랜치 라인 커플러, 밸런형 크로스오버를 구성한 다중대역 소형 급전 장치와 이를 안테나에 연결한 미니 빔 스캐닝 안테나입니다. 이 급전 회로는 버틀러 매트릭스 또는 하다마드 매트릭스로 구현되어 다중 빔 형성을 수행합니다.

기존 위상배열 안테나는 능동 위상 변위기를 사용해 비용이 높았고, 수동 위상 변위기를 쓰는 다중 빔 안테나는 단일 협대역에 머무르는 단점이 있었습니다. λ/4 계열 소자로 만든 버틀러 매트릭스는 다중대역화에 따라 크기와 체적이 커지고 국부소자 장하로 재현성이 떨어지는 문제가 있었습니다.

본 기술은 직렬·병렬 인덕턴스와 커패시턴스를 프린트형 적층 메타재질구조로 형성하여 0.25파장 계열보다 작은 이중대역 빔 형성 회로를 고가의 LTCC, CMOS, MEMS 공정 대신 저가 PCB 공정으로 제작합니다. 모노폴, 패치, Vivaldi, Quad-ridge horn 등 다양한 안테나와 결합하므로 차량통신, IoT, 5G 이동통신 단말, 스마트 가전, 28/60/77GHz 레이다에 적용될 수 있어 인접 소형 셀 간섭을 줄이는 다중 빔 안테나를 소형·저가로 내장할 수 있습니다.

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Key Features:
  • 왼손 전송파와 오른손 전송파가 공존하는 CRLH 구조의 이중대역 위상 변위기를 포함하는 메타재질구조 다중대역 소형 급전 장치
  • CRLH 이중대역 브랜치 라인 커플러와 CRLH 이중대역 밸런형 크로스오버를 위상 변위기와 함께 버틀러 매트릭스 또는 하다마드 매트릭스로 구현한 급전 회로
  • 직렬 인덕턴스, 직렬 커패시턴스, 병렬 커패시턴스, 병렬 인덕턴스를 프린트형 적층 메타재질구조로 형성해 RH 특성과 LH 특성을 함께 나타내는 위상 변위기
  • 급전 장치에 이중대역용 이중 루프 모노폴, 패치, 광대역 Vivaldi, Quad-ridge horn 중 어느 하나의 안테나를 연결한 미니 빔 스캐닝 안테나

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인천대학교
강승택 | 엄다정 | 장경남
문서
출원일:
2014-04-11
|
특허등록번호:
10-1553159
산업
방송•통신
전자부품
기술
유무선 통신
전기전자공학
국가
Korea
패밀리 특허

N/A

제시 가격
정액가
4000000
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