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IBL-26-0448

프탈이미드 화합물 및 이를 포함하는 페로브스카이트 구조 화합물

등록일
2026-07-03
프탈이미드 화합물 및 이를 포함하는 페로브스카이트 구조 화합물

본 기술은 프탈이미드 화합물과 이를 포함하는 페로브스카이트 구조 화합물, 이를 포함하는 페로브스카이트 박막에 관한 것입니다.

기존 유기 박막 소자는 산화·내구성 저하와 낮은 이동도의 단점이 있었습니다.

본 기술의 프탈이미드 화합물을 포함하는 페로브스카이트 구조 화합물은 페로브스카이트 박막을 형성해 전자소자의 안정성과 전기적 특성을 향상시킵니다.

Key Features:
  • 프탈이미드 화합물
  • 이를 포함하는 페로브스카이트 구조 화합물
  • 페로브스카이트 박막 형성
  • 전자소자의 안정성 및 전기적 특성 향상
포항공과대학교 산학협력단
한국화학연구원 | 임보규 | 노용영 | 박종목 | 정서현 | 공호열 | 김예진 | 전승주 | 박광훈
문서
출원일:
2021-09-07
|
특허등록번호:
10-2676091
산업
첨단소재
기술
화학
국가
Korea
패밀리 특허

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